激光光刻

1、无掩模激光干涉光刻中的分束方法一般有波前分割和振幅分割。

2、从工业角度来看，微芯片设备制造商使用这些深准分子激光器用于高分辨率光刻。

3、面向全色显示、光刻等应用的蓝绿紫和可见光激光晶体；

4、本文设计、光刻的BOE能将入射的激光束整形成空间二维点阵状结构光，且其衍射像是非定域的。

5、激光直写系统的应用，可以分成一次曝光制作光刻掩模和多次套刻曝光制作器件两个方面。

6、通过双远心成像光路，激光直写（LDW）系统SVG-LDW 04把液晶空间光调制器（LCD-SLM）上的光斑直接成像在光刻胶板上，得到高质量的光斑图形。

7、飞秒激光SU8负性光刻胶双光子聚合工艺研究。

8、实验发现，与激光直写曝光相比，光刻曝光更有利于胶上图形的陡直度。

9、在激光直接写入设备中需要有高分辨力的调焦伺服机构对光刻物镜进行调焦伺服。

10、声盘、视盘及光盘的亚微米圆弧线一般通过激光刻录机光刻制造。