离子束

1、以烧结B4C为靶材料、在氮离子束辅助下用脉冲激光沉积方法制备了三元化合物硼碳氮(BCN)薄膜。

2、激光束、电子束、离子束三种高能束流技术对材料表面改性是通过改变材料表面的成分或结构实现的。

3、观察到氧杂质对形成条件的影响，简单讨论了离子束混合形成硅化物的机理。

4、叙述了为纳米聚焦离子束装置研制的镓液态金属离子源的制备。

5、在离子束溅射镀膜机的膜厚控制系统的研究中，由于采用了现代检测手段，使测量精度大大提高。

6、利用电子束离子源（EBIS）或者电子束离子陷阱（EBIT）产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面，离子束与靶面作用并复合辐射特征X射线；

7、可提高低能离子束的传输效率和束通道的最大传输束流。

8、本发明涉及一种高真空离子束溅镀靶材利用率增强装置。

9、本发明公开了一种离子束传输控制优化方法，包括如下步骤：（1） 调节偏转电源，使得聚焦杯获得束流极大值；

10、强流脉冲离子束因其自身的诸多优越性，在材料领域里越来越受到重视。

11、全息图是用精细聚焦的离子束在一片30 n m厚的薄硅膜上切割出20nm长的极小的裂纹的图案组合而成的。

12、在离子束溅射和离子辅助沉积光学薄膜技术中，离子源是其中最关键的单元技术之一。

13、本文系统论述涉及强流加速器等强流离子束装置中产生的束晕混沌的复杂性理论与控制方法及其应用前景。

14、离子束研磨减薄技术中，目前常用的是氩离子。

15、低能离子束诱变的主要特点是其具有质量沉积效应。

16、本文采用有无离子源辅助电子束蒸发两种工艺制备了Ta2O5薄膜，研究了制备工艺对Ta2O5薄膜性能的影响。

17、介绍了离子束刻蚀的二次效应对图形轮廓以及离子束刻蚀入射角对图形侧壁陡度的影响。

18、作为无溶剂、环境友好的表面改性技术，离子束技术在聚合物材料表面改性中已取得广泛应用。

19、讨论了离子束辅助沉积技术在真空沉积过程中的应用原理。

20、完成电路连接之后，接通偏置电压，在没有离子束电流的情况下进行电流测量，以验证系统能够正常工作。